带引流结构的反应釜的制作方法

  反应釜是化工厂常用的一种反应设备，反应釜一般来说包括釜体和釜盖。其主要是通过电动机带动搅拌轴来搅拌反应物使其充分反应以获得所需要的物质。

  申请号为：CN5.X的中国专利公开了一种反应釜的釜体，包括釜体本体；釜体本体中部设有容纳腔；所述釜体本体的内壁上凸出设有引流结构；所述引流结构包括第一引流板、第二引流板、第三引流板和分散板；第一引流板与第二引流板之间形成流道；流道具有输入端和输出端；第三引流板位于流道的输出端的中部；所述分散板上设有多个让反应溶液流过的通孔。

  上述专利文件通过设置第一引流板、第二引流板、第三引流板和带若干个通孔的分散板来促进反应釜内物料的混合均匀。但是分散板是固定的，物料在冲撞分散部后的流向较为恒定，混合仍不够充分，故有待改善。

  针对现存技术的不足，本实用新型提供了一种促进物料充分混合的带引流结构的反应釜。

  为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种带引流结构的反应釜，包括釜体本体和分散板，所述分散板与釜体本体活动连接，所述分散板连接有驱动其相对釜体本体运动的驱动装置。

  进一步地，所述釜体本体的内壁沿其高度方向设有滑槽，所述分散板上设有在滑槽内滑动的滑块。

  进一步地，还包括釜盖，所述驱动装置为设置在釜盖上的旋转电机，所述旋转电机连接有凸轮，所述釜盖上设有盖槽，所述盖槽内滑动连接有一端与分散板抵接的顶杆，所述顶杆的另一端与凸轮抵接，所述分散板与滑槽之间设有弹性件。

  综上所述，与釜体本体活动连接的分散板能相对釜体本体运动，这样物料冲撞分散板的位置不同，因此会从不同位置的通孔穿过，流向具有无序性，大幅度的提升物料的混合效率，促进物料的充分混合。

  附图说明：1、釜体本体；2、分散板；3、滑槽；4、釜盖；5、旋转电机；6、凸轮；7、顶杆。

  一种带引流结构的反应釜，包括釜体本体1和分散板2，所述分散板2与釜体本体1活动连接，所述分散板2连接有驱动其相对釜体本体1运动的驱动装置。

  通过采用上述技术方案，与釜体本体1活动连接的分散板2能相对釜体本体1运动，这样物料冲撞分散板2的位置不同，因此会从不同位置的通孔穿过，流向具有无序性，大幅度的提升物料的混合效率，促进物料的充分混合。

  本实施例优选的，所述釜体本体1的内壁沿其高度方向设有滑槽3，所述分散板2上设有在滑槽3内滑动的滑块。

  通过采用上述技术方案，如图2和图3所示，在搅拌过程中，驱动装置驱动带滑块的分散板2在滑槽3内上下运动，如图3中的a路径所示，这样通孔会上下移动，撞向分散板2的物料会从不同位置的通孔穿过，流向具有无序性，大幅度的提升物料的混合效率，促进物料的充分混合。

  还可以在滑槽3内设置密封圈，提升滑槽3的密封性能，避免物料进入滑槽3而腐蚀零部件。

  本实施例优选的，还包括釜盖4，所述驱动装置为设置在釜盖4上的旋转电机5，所述旋转电机5连接有凸轮6，所述釜盖4上设有盖槽，所述盖槽内滑动连接有一端与分散板2抵接的顶杆7，所述顶杆7的另一端与凸轮6抵接，所述分散板2与滑槽3之间设有弹性件。

  通过采用上述技术方案，如图1至图3所示，旋转电机5启动时带动凸轮6转动，当凸轮6与顶杆7抵接的点由最低点过渡至最高点时，顶杆7被下压，分散板2被向下顶，当凸轮6与顶杆7抵接的点由最高点过渡至最低点时，分散板2在弹性件的弹力作用下回位向上运动，这样为一个循环；使用凸轮6机构能轻松实现分散板2上下运动轨迹的控制；这样撞向分散板2的物料会从不同高度位置的通孔穿过，流向具有无序性，大幅度的提升物料的混合效率，促进物料的充分混合。

  在弹性件外可以包覆蛇腹软管，用于保护弹性件，避免其接触物料而受到腐蚀；凸轮6除了采用图1和图2中的样式，还能够使用不规则轮廓，这样分散板2将无序上下运动，进一步地促进物料的充分混合。

  通过采用上述技术方案，如图4所示，铰接方式结构相对比较简单，成本较低，易于实施，分散板2可以在驱动装置的驱动下沿图4中的b路径所示摆动，也能够在一定程度上促进物料的充分混合。

  本实施例优选的，所述驱动装置为压力缸，所述压力缸连接分散板2和釜体本体1的内壁。

  通过采用上述技术方案，由压力缸间歇性伸缩带动分散板2摆动，操控方便；还可以在压力缸与分散板2之间设置蛇腹软管，同样达到保护零部件的目的，且防止物料接触压力缸。

  综上所述，与釜体本体1活动连接的分散板2能相对釜体本体1运动，这样物料冲撞分散板2的位置不同，因此会从不同位置的通孔穿过，流向具有无序性，大幅度的提升物料的混合效率，促进物料的充分混合。

  以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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